仪器型号：Talos F200S  生产厂家：赛默飞世尔科技

主要的技术指标及配置：

1.加速电压：200kV

2.分辨率：0.25nm(TEM)，0.16nm (STEM)

3.放大倍率为25X~1,050,000X

4.能谱仪：EDS分辨率为136 eV；双电制冷SDD能谱探头。

5.样品台：配备单倾、双倾台；样品台倾转角度(α，β = ±30°)

分析模式：

1.普通（高分辨）透射成像模式

可进行形貌、物相、高分辨结构等分析，包括TEM (明场、暗场成像)、HRTEM(高分辨成像)。

2.电子衍射

主要用于物相、晶体结构研究。可进行选区电子衍射、会聚束电子衍射等。会聚束电子衍射（CBED）最大会聚角：≥100mrad（半角）。

3.扫描透射成像模式

主要用于形貌及结构的观察与分析。高角环形暗场（HAADF）成像探头。

4. EDS能谱分析

主要用于被检测物质的化学成分的定性、定量及面分布等分析。

‌

主要功能：

普通形貌像、高分辨像、衍射、STEM、EDS分析点线面元素分析，广泛应用于材料微观结构的观察与分析。

应用领域：

广泛应用于高分子材料、‌陶瓷、‌纳米材料、‌生物学、‌医学、‌化学、‌物理学、‌地质学、‌金属、‌半导体材料等领域的科学研究。